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密閉制藥化工用制冷加熱循環(huán)器 tcu溫控系統(tǒng)

簡要描述:【無錫冠亞】密閉制藥化工用制冷加熱循環(huán)器 tcu溫控系統(tǒng),應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

  • 產(chǎn)品型號:SUNDI-135
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-01-16
  • 訪  問  量:688
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區(qū)間10萬-20萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領(lǐng)域化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥/生物制藥,綜合


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制


型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質(zhì)溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設(shè)備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設(shè)備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設(shè)定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協(xié)議

MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設(shè)備導熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質(zhì)溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關(guān),過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質(zhì)。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/





密閉制藥化工用制冷加熱循環(huán)器 tcu溫控系統(tǒng)

密閉制藥化工用制冷加熱循環(huán)器 tcu溫控系統(tǒng)


  在蒸餾過程中,加熱和冷卻的效率直接影響到實驗的效果。過熱或過冷都可能導致實驗失敗,甚至引發(fā)問題。因此,選擇一款穩(wěn)定的實驗室密閉高低溫循環(huán)裝置至關(guān)重要。

  二、實驗室密閉高低溫循環(huán)裝置在蒸餾反應中的應用

  在蒸餾反應中,實驗室密閉高低溫循環(huán)裝置可以通過自動調(diào)節(jié)溫度,確保實驗在條件下進行。無論是在加熱還是冷卻階段,都能保證溫度的穩(wěn)定性和準確性。

  通過使用實驗室密閉高低溫循環(huán)裝置,蒸餾過程可以更快、更有效地完成。這對于工業(yè)生產(chǎn)具有重要意義,可以提高產(chǎn)量,降低能源消耗。

  使用實驗室密閉高低溫循環(huán)裝置可以減少實驗過程中可能出現(xiàn)的問題。系統(tǒng)能夠自動檢測異常溫度,并及時采取保護措施,如自動關(guān)閉加熱或冷卻功能,以防止過熱或過冷。

在選擇實驗室密閉高低溫循環(huán)裝置時,選擇經(jīng)過嚴格測試和驗證的系統(tǒng),以確保其在各種條件下的穩(wěn)定工作。根據(jù)實際需要,選擇適合的溫度范圍。




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