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循環水加熱系統 半導體中chiller

簡要描述:【無錫冠亞】循環水加熱系統 半導體中chiller,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

  • 產品型號:SUNDI-175
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-01-17
  • 訪  問  量:599
詳情介紹
品牌冠亞恒溫價格區間10萬-20萬
產地類別國產應用領域化工,生物產業,石油,制藥/生物制藥,綜合

循環水加熱系統 半導體中chiller


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環系統

整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


循環水加熱系統 半導體中chiller

循環水加熱系統 半導體中chiller

 

  加熱冷卻一體機在使用過程中需要注意多個方面,以確保其正常運行和使用安全

  一、安裝與位置選擇

  確保設備放置在一個平穩、無震動的地方,周圍環境要清潔、干燥,通風良好。不要將設備安裝在易燃、易爆或潮濕的位置,防止火災和電氣短路。避免將設備安裝在易被磨損、撞擊和敲打的位置,以延長設備使用。

  二、設備檢查

  在啟動加熱冷卻一體機前,務必對設備進行細致的檢查 。首先,查看設備外殼是否有破損、變形跡象,這些問題可能影響設備的密封性與安全性,一旦發現應及時處理。接著,仔細檢查電源線,確保其無破損、斷裂或短路風險,插頭與插座連接緊密,接地良好。若電源線存在問題,易引發觸電事故或設備故障。

  各部件的連接狀況也不容忽視,檢查管道連接處是否牢固,有無松動、泄漏現象;查看閥門開合是否正常,確保冷卻液流通順暢。此外,還要檢查電氣線路連接是否穩固,各電器元件有無損壞或異常。

  觀察冷卻液箱的液位標識,液位需保持在正常范圍內,若液位過低,會影響冷卻效果,導致設備過熱;若液位過高,則可能在設備運行時造成溢出。

  三、參數設置與監控

  依據具體生產工藝需求,設置加熱冷卻一體機的溫度、壓力、流量等參數,是確保設備正常運行與生產質量的關鍵。不同的生產過程,對溫度等參數的要求不同

  在設備運行過程中,實時監控參數變化。通過設備自帶的顯示屏或監控系統,密切關注溫度、壓力等數據的波動情況。若發現參數偏離設定值,應立即分析原因,采取相應措施進行調整。例如,溫度突然升高,可能是冷卻系統故障、加熱元件異常或負載過大等原因導致,需及時排查,以防止設備因過熱受損。


循環水加熱系統 半導體中chiller





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